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為新材料開(kāi)發(fā)提供溫度標(biāo)準(zhǔn),成就無(wú)限可能!
PRODUCTS / 熱門(mén)產(chǎn)品
  • [溫度測(cè)量]

    Impac 600系列紅外測(cè)溫儀

    2024-11-06

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [溫度測(cè)量]

    Impac IGA 6 Advanced...

    2022-07-07

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [溫度測(cè)量]

    UV400,UVR 400 GaN基外延...

    2024-07-03

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

更多
  • [計(jì)量與校準(zhǔn)]

    MIKRON M316黑體爐

    2024-08-28

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [計(jì)量與校準(zhǔn)]

    Inframet MTB精密中溫面源黑體

    2019-12-03

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [計(jì)量與校準(zhǔn)]

    Mikron M315-HT黑體爐

    2019-12-03

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

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  • [光學(xué)發(fā)射率反射率]

    AvaSR-96便攜式太陽(yáng)光譜反射儀

    2024-07-11

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [光學(xué)發(fā)射率反射率]

    D&S AE1/RD1半球發(fā)射率測(cè)量?jī)x

    2019-11-13

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

  • [光學(xué)發(fā)射率反射率]

    TEMP 2000A

    2019-12-04

    市場(chǎng)價(jià): ¥0.00

    價(jià)格: ¥0.00

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上海明策電子科技有限公司座落于有東方明珠之稱(chēng)的國(guó)際大都市上海,總部辦公室位于上海松江區(qū)漕河涇經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)。還在多個(gè)城市設(shè)立了本地技術(shù)服務(wù)中心。


明策科技定位于成為行業(yè)內(nèi)專(zhuān)業(yè)測(cè)試需求的解決方案提供者,致力于為科研、工業(yè)、計(jì)量等行業(yè)引進(jìn)專(zhuān)業(yè)的測(cè)試方案及儀器設(shè)備,為各實(shí)驗(yàn)室提供先進(jìn)的儀器解決方案。應(yīng)用方案涉及紅外測(cè)溫、高清成像、材料研究、標(biāo)定校準(zhǔn)、系統(tǒng)集成。原理涉及光學(xué)紅外波段、可見(jiàn)光波段、太赫茲波段、激光波段等。
上海明策電子科技有限公司
MONCH TECHNOLOGY
公司新聞
  • D&S AE1/RD1發(fā)射率測(cè)量?jī)x:符合ASTM C1371、JG/T 235-2014

    D&S AE1/RD1發(fā)射率測(cè)量?jī)x:符合ASTM C1371、JG/T 235-2014

    2025-04-16

    D&S AE1/RD1 半球發(fā)射率測(cè)量?jī)x是一款專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于測(cè)量材料的半球發(fā)射率的儀器,符合 ASTM C1371 標(biāo)準(zhǔn)。該儀器由兩部分組成:AE1 發(fā)射率計(jì)和 RD1 數(shù)字電壓計(jì)。它為實(shí)驗(yàn)室提供了一個(gè)高效、精確且經(jīng)濟(jì)的解決方案,能夠快速、準(zhǔn)確地測(cè)量各種材料的半球發(fā)射率。

行業(yè)新聞
  • 如何為紅外測(cè)溫儀找到合適的發(fā)射率設(shè)置?

    如何為紅外測(cè)溫儀找到合適的發(fā)射率設(shè)置?

    2025-06-06

    什么是發(fā)射率?

    發(fā)射率是衡量表面發(fā)出紅外能量效率的指標(biāo)。對(duì)于大多數(shù)材料來(lái)說(shuō),發(fā)射率與反射率相反。高發(fā)射率的表面更容易被紅外測(cè)溫儀測(cè)量;而低發(fā)射率則會(huì)增加測(cè)量難度。

    大多數(shù)非金屬、非反光材料的發(fā)射率通常約為0.95。這也是IMPAC傳感器的默認(rèn)設(shè)置。
    上海明策的IMPAC紅外測(cè)溫傳感器配有可調(diào)節(jié)發(fā)射率設(shè)置,以適應(yīng)更廣泛的目標(biāo)材料。調(diào)節(jié)方式因型號(hào)而異,可能采用旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)、按鈕、觸控屏,或通過(guò)USB/RS485接口訪(fǎng)問(wèn)傳感器內(nèi)部存儲(chǔ)的參數(shù)進(jìn)行設(shè)置。

  • 2000℃高溫材料光譜發(fā)射率測(cè)量:?超高溫黑體+FTIR光譜儀

    2000℃高溫材料光譜發(fā)射率測(cè)量:?超高溫黑體+FTIR光譜儀

    2025-06-05

    能量對(duì)比法是一種基于發(fā)射率定義的直接測(cè)量方法。具體而言,在相同的溫度、波長(zhǎng)和視角條件下,測(cè)量待測(cè)材料與理想黑體的輻射能量,二者之比即為材料在該條件下的光譜發(fā)射率。

  • INFRAMET面源黑體:mk級(jí)溫度穩(wěn)定性,面源可定制至500mm

    INFRAMET面源黑體:mk級(jí)溫度穩(wěn)定性,面源可定制至500mm

    2025-06-03

    TCB 系列:熱電控低溫黑體,適用于0°C至+100°C范圍(可擴(kuò)展至-40°C~+150°C),溫度分辨率和穩(wěn)定性均達(dá)到1 mK,發(fā)射率高達(dá)0.98(可選0.99)。應(yīng)用于冷卻型熱像儀測(cè)試、標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量及科研等高要求領(lǐng)域。

  • 熱像儀NETD、MRTD檢測(cè)與評(píng)價(jià)系統(tǒng)應(yīng)用方案—遼寧電科院

    熱像儀NETD、MRTD檢測(cè)與評(píng)價(jià)系統(tǒng)應(yīng)用方案—遼寧電科院

    2025-06-03

    NETD測(cè)試方法:
    系統(tǒng)通過(guò)對(duì)高均勻度黑體目標(biāo)進(jìn)行圖像采集,計(jì)算熱像儀信號(hào)峰值與系統(tǒng)噪聲的信噪比,當(dāng)SNR=1時(shí)的溫差即為NETD。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,在不同環(huán)境溫度(12℃、22℃、34℃)下,多次測(cè)量值之間偏差均小于5%,驗(yàn)證了系統(tǒng)的穩(wěn)定性與測(cè)試精度。

  • 紅外熱像技術(shù)在激光金屬沉積(LMD)過(guò)程中的監(jiān)測(cè)與缺陷控制

    紅外熱像技術(shù)在激光金屬沉積(LMD)過(guò)程中的監(jiān)測(cè)與缺陷控制

    2025-05-30

    紅外熱成像技術(shù),特別是短波紅外相機(jī)結(jié)合激光濾波器的應(yīng)用,能夠在LMD過(guò)程中實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、非接觸式的溫度監(jiān)測(cè)。相比傳統(tǒng)的單點(diǎn)測(cè)溫(如雙波長(zhǎng)高精度紅外計(jì)),熱成像相機(jī)可提供面狀溫度分布信息,極大提升了缺陷檢測(cè)的空間分辨率與靈敏度。例如,使用的IMPAC IGA 320/23-LO單色高溫計(jì)/IMPAC IGAR 12-LO two-color pyrometer(IMP)能在150–1200?°C范圍內(nèi)準(zhǔn)確探測(cè)熱變化,定位并跟蹤微裂紋。

  • LumaSense M330黑體爐應(yīng)用于高溫輻射測(cè)溫校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)

    LumaSense M330黑體爐應(yīng)用于高溫輻射測(cè)溫校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)

    2025-05-29

    實(shí)驗(yàn)采用恒溫爐構(gòu)建背景溫度為1023 K的高溫環(huán)境,使用Inconel 718樣品作為測(cè)溫對(duì)象,設(shè)置K型熱電偶測(cè)量真實(shí)溫度,采用三類(lèi)輻射測(cè)溫方法(單色、雙色、多波段)進(jìn)行測(cè)量,并引入LumaSense M330作為標(biāo)準(zhǔn)黑體源進(jìn)行系統(tǒng)誤差分析和校準(zhǔn)。

  • ?基于X點(diǎn)發(fā)射率原理的2273K高溫金屬發(fā)射率測(cè)量系統(tǒng)

    ?基于X點(diǎn)發(fā)射率原理的2273K高溫金屬發(fā)射率測(cè)量系統(tǒng)

    2025-05-28

    在實(shí)際測(cè)溫過(guò)程中,金屬材料表面的發(fā)射率常隨溫度、氧化狀態(tài)及表面粗糙度發(fā)生變化,成為輻射溫度誤差的主要來(lái)源。X點(diǎn)發(fā)射率(X-point emissivity)指在特定波長(zhǎng)處,金屬材料不同溫度下的發(fā)射率曲線(xiàn)交匯于一點(diǎn),其發(fā)射率對(duì)溫度變化不敏感,天然具備溫度獨(dú)立性,是解決非接觸測(cè)溫中“發(fā)射率不確定性”的理想突破口。

    然而,以往該原理僅停留在理論或?qū)嶒?yàn)室初級(jí)驗(yàn)證階段,缺乏完整的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)與測(cè)量流程。我們首次實(shí)現(xiàn)了理論建?!獢?shù)值仿真—實(shí)驗(yàn)測(cè)量—溫度反演的一體化系統(tǒng),真正讓X點(diǎn)測(cè)溫成為工程現(xiàn)實(shí)。

  • 紅外成像儀MRTD測(cè)試的影響因素分析與系統(tǒng)應(yīng)用

    紅外成像儀MRTD測(cè)試的影響因素分析與系統(tǒng)應(yīng)用

    2025-05-27

    紅外成像系統(tǒng)在軍事偵察、工業(yè)檢測(cè)及安防等領(lǐng)域已形成廣泛應(yīng)用,其成像性能的定量評(píng)估成為系統(tǒng)研制與驗(yàn)收中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。其中,最小可分辨溫差(MRTD)是衡量熱像儀空間分辨與熱靈敏度綜合能力的重要指標(biāo)。然而,MRTD測(cè)試不僅受系統(tǒng)噪聲、調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)及顯示終端性能等因素影響,更受到采樣相位變化的顯著干擾,導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)偏離理論值。

    為提升測(cè)試精度與結(jié)果一致性,本文在已有理論研究的基礎(chǔ)上,結(jié)合Inframet公司DT系列紅外測(cè)試系統(tǒng)的應(yīng)用案例,探討通過(guò)先進(jìn)設(shè)備和參數(shù)調(diào)控手段,提升MRTD測(cè)試準(zhǔn)確性與實(shí)用性的方法路徑。

  • IMPAC IGA 6/23光學(xué)高溫計(jì):高溫材料制備時(shí)的非接觸真空測(cè)溫方案

    IMPAC IGA 6/23光學(xué)高溫計(jì):高溫材料制備時(shí)的非接觸真空測(cè)溫方案

    2025-05-26

    隨著先進(jìn)材料科學(xué)的發(fā)展,對(duì)高溫過(guò)程的精確控制提出了前所未有的要求。無(wú)論是二維材料的金屬嵌入、半導(dǎo)體界面調(diào)控,還是新型磁性納結(jié)構(gòu)的構(gòu)建,高溫環(huán)境下的過(guò)程控制都是決定最終結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)鍵因素。在此背景下,IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學(xué)高溫計(jì),以其非接觸、高精度、響應(yīng)快等特性,成為眾多高端科研項(xiàng)目及工業(yè)應(yīng)用的優(yōu)選測(cè)溫設(shè)備。

  • ?Mikron M330黑體爐:校準(zhǔn)不同波段(UV-VIS-NIR)高溫計(jì)探測(cè)器

    ?Mikron M330黑體爐:校準(zhǔn)不同波段(UV-VIS-NIR)高溫計(jì)探測(cè)器

    2025-05-16

    多波長(zhǎng)高溫計(jì)通常由多個(gè)探測(cè)器組成,用以覆蓋紫外(UV)、可見(jiàn)光(VIS)和近紅外(NIR)多個(gè)波段。本文所述的測(cè)溫系統(tǒng)使用CCD(200–1050 nm)和InGaAs(1000–1700 nm)兩種探測(cè)器。在實(shí)際應(yīng)用中,不同波段的探測(cè)器對(duì)相同溫度下的輻射響應(yīng)存在差異,因此需要通過(guò)黑體輻射源建立其輻射傳遞函數(shù)(Radiation Transfer Function, RTF),以實(shí)現(xiàn)輻射強(qiáng)度到真實(shí)溫度的準(zhǔn)確反演。

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